配属直後の方に向けて、EUVリソグラフィでパターンができるまでの流れと、レジストに求められる性質を平易に整理します。感度・解像度・ラフネスの関係やばらつきの考え方を押さえ、評価データや社内資料の数値を自分の言葉で説明し、次に調べるべき原典にたどり着けるようになることを目指します。
キャンセル規定: 動画を再生しておらず、資料もダウンロードしていない場合に限りキャンセルできます（詳細は下のタブ）
配属直後の方に向けて、EUVリソグラフィでパターンができるまでの流れと、レジストに求められる性質を平易に整理します。感度・解像度・ラフネスの関係やばらつきの考え方を押さえ、評価データや社内資料の数値を自分の言葉で説明し、次に調べるべき原典にたどり着けるようになることを目指します。
【対象】半導体材料・プロセス部門に配属間もない方、これから学ぶ方
【収録時間】約60分（予定・スライド約65枚・日本語字幕つき）
【内容】
・第1章 なぜ微細化でEUVが要るのか
・第2章 露光からパターン形成までの流れ
・第3章 レジストに求められる性質の整理
・第4章 化学増幅型が働くしくみを平易に
・第5章 メタル系材料とドライ処理の考え方
・第6章 ばらつきと確率的欠陥の捉え方
・第7章 評価データの読み方と伝え方
・第8章 明日から始める確認手順と学び方
※ ご注文から1時間程度でご視聴いただけます。
※ 本動画の音声は、AIによる合成音声です。
| 視聴形態 | １．VOD １日間レンタル, ２．VOD ５日間レンタル, ３．VOD ３０日間レンタル |
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キャンセル規定（ビデオ・VOD）
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