受講形式ライブ配信
先端および次世代ＥＵＶリソグラフィー技術の基礎、
最新技術動向と今後の展望
■リソグラフィー技術■ ■EUVリソグラフィー技術課題に対する取り組み■■レジスト材料プロセス技術：マスク欠陥技術、ペリクル技術、光源技術■■次世代EUVリソグラフィー、日本の半導体技術の今後■
| 日時 | 【ライブ配信】 2026年9月18日（金） 10:30～16:30 | |
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| 受講料(税込) | 55,000円 定価：本体50,000円＋税5,000円 【2名同時申込みで1名分無料キャンペーン（１名あたり定価半額の55,000円）】 ※2名様とも会員登録をしていただいた場合に限ります。 2名様以降の受講者は、申込み前に会員登録をお済ませください。 ※同一法人内(グループ会社でも可)による2名同時申込みのみ適用いたします。 ※3名様以上のお申込みの場合、上記１名あたりの金額で受講できます。 ※請求書（PDFデータ）は、代表者にE-mailで送信いたします。 ※請求書および領収書は1名様ごとに発行可能です。 (申込みフォームの通信欄に「請求書１名ごと発行」と記入ください。) ※他の割引は併用できません。 ※テレワーク応援キャンペーン(1名受講)【オンライン配信セミナー受講限定】 1名申込みの場合：受講料 定価：44,000円 定価：本体40,000円＋税4,000円 ※１名様でオンライン配信セミナーを受講する場合、上記特別価格になります。 | |
Low NA EUVL, High NA EUVL, Hyper NA EUV, 短波長EUVLの特徴、並びにこれに係わる各基盤技術要素全般
（光源、光学系（多層膜を含む）、マスク、レジスト、ペリクルなど）
（光源、光学系（多層膜を含む）、マスク、レジスト、ペリクルなど）
次世代EUVL研究寄附講座 特任教授・名誉教授 渡邊 健夫 氏
＜職歴＞
1990.10 シャープ株式会社中央研究所入社 64MDRAMの開発に従事
1993.4 EUVLの研究に着手
1996.4 兵庫県立大学高度産業科学技術研究所 助手
2007.4 助教、2008年 准教授、2015年～2024年 教授 兼 EUVL研究開発センター長
2016.4～2023.3 同 研究所長 兼 EUVL研究開発センター長
2021.11～2023.31 学長特別補佐
2024年より現職
＜外部委員＞
・2024～ 文科省関連K-Program分科委員
（アドバイザー）
・2020～ Committee member of IRDS and SDRJ
半導体国際ロードマップ委員(Lithography)
・2021-2023 次世代電池・半導体技術開発
拠点推進協議会座長
＜学会関連＞
・Conference Chair of Photomask Japan
・President of the Photopolymer Sci. and Tech.
・Committee member of Blue-X Workshop
・Committee member of EUVL Workshop
・Committee member of Hyper NA EUVL Workshop
＜主な受賞歴＞
・2024.12 兵庫県科学賞受賞 他
