(9/16)クライオエッチングの基礎・現状・課題と最新技術動向

価格帯: ¥39,600 – ¥49,500 (税込)
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クライオエッチングの基礎・現状・課題と最新技術動向 反応メカニズムから高アスペクト比加工・クライオ原子層エッチングまで 受講可能な形式:【ライブ配信(見逃し配信付)】 日 時 【ライブ配信】 2026…

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セミナー

クライオエッチングの
基礎・現状・課題と最新技術動向

反応メカニズムから高アスペクト比加工・クライオ原子層エッチングまで





日時 【ライブ配信】 2026年9月16日(水) 13:00~16:30
受講料(税込) 49,500円
定価:本体45,000円+税4,500円

【2名同時申込みで1名分無料キャンペーン(1名あたり定価半額の49,500円)】
※2名様とも会員登録をしていただいた場合に限ります。
2名様以降の受講者は、申込み前に会員登録をお済ませください。
※同一法人内(グループ会社でも可)による2名同時申込みのみ適用いたします。
※3名様以上のお申込みの場合、上記1名あたりの金額で受講できます。
※請求書(PDFデータ)は、代表者にE-mailで送信いたします。
※請求書および領収書は1名様ごとに発行可能です。
  (申込みフォームの通信欄に「請求書1名ごと発行」と記入ください。)
※他の割引は併用できません。

※テレワーク応援キャンペーン(1名受講)【オンライン配信セミナー受講限定】
1名申込みの場合:受講料 定価:39,600円

定価:本体36,000円+税3,600円
※1名様でオンライン配信セミナーを受講する場合、上記特別価格になります。
名古屋大学 低温プラズマ科学研究センター 特任教授 蕭 世男 氏

半導体集積回路デバイスの製造において、プラズマを用いた微細加工、すなわちプラズマエッチングは不可欠なプロセス技術である。トランジスタ、DRAM、NANDに代表されるデバイスでは、従来の微細化および高積層化(スケーリング)が進められてきた。しかし近年、既存技術には物理的・技術的な限界が顕在化しつつある。そこで、基板温度を極低温領域まで低下させ、ウェハ表面における反応種の物理吸着および表面拡散を制御するクライオエッチング(cryogenic etching)が注目されている。本講演では、プラズマエッチングの基本原理から、クライオエッチング導入の背景、反応メカニズムの解明、ならびに最新の研究動向について解説する。

1.エッチング加工とは
 1.1 等方性エッチング
 1.2 異方性エッチング

2.ドライプロセスエッチング
 2.1 低温プラズマの基礎原理と知識
 2.2 プラズマエッチングと装置
 2.3 プラズマエッチングメカニズム
 2.4 高アスペクトエッチング

3.クラオイエッチング
 3.1 クラオイエッチングとは
 3.2 クラオイエッチングの基礎原理
 3.3 クラオイエッチングの応用例

4.クラオイエッチングによる高アスペクト比加工
 4.1 クライオシリコン深掘エッチング
 4.2 クライオチャネルホール深掘エッチング

5.クラオイエッチングの反応メカニズムと加工技術の最新動向
 5.1 クラオイエッチングにおける気相反応
 5.2 クラオイエッチングにおける表面反応
 5.3 クライオ原子層エッチング

  □質疑応答□

※詳細プログラムは変更になる可能性がございます。

追加情報

参加形態

テレワーク応援キャンペーン【オンライン配信1名受講限定】, 2名同時申込みで1名分無料, ライブ配信で参加

配布資料 Live配信受講:PDFテキスト(印刷可・編集不可)

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特典 ライブ配信受講に加えて、見逃し配信でも以下期間中に視聴できます
【見逃し配信の視聴期間】2026年9月24日(木)~9月30日(水)まで
※このセミナーは見逃し配信付です。セミナー終了後も繰り返しの視聴学習が可能です。
※ライブ配信を欠席し見逃し配信の視聴のみの受講も可能です。
※見逃し配信は原則として編集は行いません。
※視聴準備が整い次第、担当から視聴開始のご連絡をいたします。
備考 資料 付
※講義中の録音・撮影はご遠慮ください。
※開催日の概ね1週間前を目安に、最少催行人数に達していない場合、セミナーを中止することがございます。

本セミナーはサイエンス&テクノロジー株式会社が主催いたします。

キャンセル規定(サイエンス&テクノロジー社の規定に準じます)

会場受講・ライブ配信・アーカイブ配信開催日から営業日で逆算し
7 営業日前まで:キャンセル料なし
6〜3 営業日前:受講料の 70%
2 営業日前〜当日・欠席:受講料の 100%
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