
<半導体デバイス向けプラズマ装置による高品質成膜へ>
プラズマCVD(化学気相堆積)装置による
高品質薄膜の成膜技術、および量産化対応
■装置メーカーの立場から、プラズマCVD装置の技術/課題と対策を解説■
| 日時 | 【オンデマンド配信】 2026年9月29日(火) 23:59まで申込み受付中 【収録日:2025年6月19日(映像時間:2時間31分)】 映像時間:2時間31分 |
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| 受講料(税込) | 49,500円 定価:本体45,000円+税4,500円 【2名同時申込みで1名分無料キャンペーン(1名あたり定価半額の49,500円)】 ※テレワーク応援キャンペーン(1名受講)【オンライン配信セミナー受講限定】 |
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| 会場 | 【オンデマンド配信】 オンライン配信 | |






