Name: [書籍] プラズマCVDにおける成膜条件の最適化に向けた反応機構の理解とプロセス制御・成膜事例
SKU: M044
Price: 55000 JPY
Availability: InStock

	プラズマCVDにおける成膜条件の最適化に向けた反応機構の理解とプロセス制御・成膜事例 ■「所望の薄膜」を形成するプラズマCVDプロセスの確立に向けて■

電気回路、電磁気学、放電工学、流体力学、化学工学、表面科学……
様々な学問体系が絡み合う、複雑なプラズマCVDを「使いこなしたい！」と願う技術者・研究者へ

○「こういう膜質にしたい」という要望はあるものの、取るべき手段やその理由がわからない人に
○「この数値が関係しそうだ」と予想はつくが、実際にはどうしたらいいかわからない人にも
○ または、自社装置だけでなく「こうしたらいいですよ」と成膜方法も提案できるようになるためにも

▼ 本書の一部内容をご紹介 ▼
■プラズマCVD成膜の”ナカミ”を理解する～基礎的な理論と成膜事例を通じて仕組みを理解する～
　・SiH4プラズマを用いたa-Si:H成膜例から；SiH3ラジカルの表面反応の基板温度依存性
　・トレンチ構造への成膜；空隙が形成されるのを防ぐ方法とトレンチ構造へのSiO成膜例
　・膜のストレスをゼロにする方策；最も簡単だが副作用がある方法、その副作用を解決する方法
　・機能性の官能基を有する薄膜の堆積；SiO とCHxのハイブリッド膜例、フッ化炭素膜へのベンゼン環構造含有例

■成膜条件の最適化を少しでも効率よく行うためには～基本的な考え方や手順を解説～
　・パウダー(粉)の抑制；プラズマ中／チャンバー内壁や電極などからの剥離によるパウダーの対策
　・基板からの膜剥離対策；剥離しやすい条件ととるべき対策(Si系薄膜の事例で解説)
　　他、膜質の均一化・成膜速度・成膜条件と物性の関係など

■もっと実務・実用に近い系で学ぶ！成膜プロセス最適化へ向けた取り組み事例
　・グラフェン／グラフェンナノリボン／ダイヤモンド／アモルファス炭素
　・成膜装置規模とDLC膜／SiN成膜の低温化技術／酸化チタン薄膜と親水化／樹脂製の自動車ウィンドウ
　・CVD・ALD複合装置開発／微粒子挙動のその場観察・計測と汚染制御

	プラズマCVDにおける成膜条件の最適化に向けた反応機構の理解とプロセス制御・成膜事例 ■「所望の薄膜」を形成するプラズマCVDプロセスの確立に向けて■

発刊日	2018年9月27日
体裁	B5判並製本 328頁
価格 ( 税込 )	55,000円　定価：本体50,000円＋税5,000円　なお、本システムのお申し込み時のカート画面では割引は表示されませんが、　　上記条件を満たしていることを確認後、ご請求書またはクレジット等決済時等に　　調整させて頂きます。
発行	サイエンス＆テクノロジー(株) 送料無料
I S B Nコード	978-4-86428-170-6
C コード	C3058

大阪市立大学　　　　　　　　白藤　立　　　　　　　　(国研)産業技術総合研究所　山田　英明
　　　　　　　　　　　　　　　　　松田　彰久　　　　　　茨城大学　　　　　　　　　　　　　尾関　和秀
東京都市大学　　　　　　　　市川　幸美　　　　　　茨城大学　　　　　　　　　　　　　山内　智
京都工芸繊維大学　　　　　林　康明　　　　　　　　大陽日酸(株)　　　　　　　　　　　?　洋志
東北大学　　　　　　　　　　　加藤　俊顕　　　　　　 SPPテクノロジーズ(株)　　　　　村上　彰一
東北大学　　　　　　　　　　　鈴木　弘郎　　　　　　 (株)島津製作所　　　　　　　　　　東　和文
東北大学　　　　　　　　　　　金子　俊郎　　　　　　 (株)日本製鋼所　　　　　　　　　寅丸　雅光
佐世保工業高等専門学校　篠原　正典　　　　　　近畿大学　　　　　　　　　　　　　牟田　浩司
佐世保工業高等専門学校　猪原　武士　　　　　　広島県立総合技術研究所　　　小島　洋治
佐世保工業高等専門学校　柳生　義人　　　　　　広島大学　　　　　　　　　　　　　島田　学
佐世保工業高等専門学校　大島　多美子　　　　　広島大学　　　　　　　　　　　　　久保　優
佐世保工業高等専門学校　川崎　仁晴

プラズマCVDで「所望の薄膜」を形成するには……本書はそのプロセスへの近道を示す１冊でありたいという想いから、ご執筆様方の多大なるご理解ご協力のもとに発刊されました。

プラズマCVDでは反応系が複雑であるがために、時には場当たり的に成膜条件・レシピを確立させることがあるかと存じます。しかし、もし少しでも狙いが定められるなら、少しでも条件が絞り込めるなら、プロセスの確立とそしてその先に待つ「プラズマCVDの恩恵を受けた部材/製品の開発」により近づくことができるのでは、という考えを基盤として本書を構成しました。

本書１章は「なぜプラズマCVDを使うのか」という問いに始まり、プラズマCVDをはじめとした各成膜手法の利点と欠点を整理・比較しています。その目的は「なぜプラズマCVDを使うのか」という問いに強い説得力をもって答えられるように、その立ち位置を理解する必要があるからだと述べられています。２章ではプロセスプラズマを操る上で理解すべき物理的側面としてプラズマの電磁気学的な構造を、３章は物理的側面と同等に重要な化学反応や輸送過程といった化学工学的な側面を、そして４章には成膜メカニズムがかなり詳細に明らかにされた成膜例をもとに、最終的な膜構造に直結する表面反応の機構が解説されています。
つづく５章ではa-Si:H系膜を堆積する場合を例に成膜時に考慮すべき事柄を、最後に、６章では各専門家が得た成膜プロセス最適化への影響因子に関する貴重なご知見を詳述していただだきました。

本書発刊にあたり、大阪市立大学白藤立先生をはじめとしたご執筆様方に多大なるご理解ご協力を頂いたことへ、あらためて心から感謝の意を表します。

(書籍企画担当)