＜テクニカルトレンドレポート＞ シリーズ３マイクロLED製造技術と量産化への課題・開発動向

はじめに Chapter１ μ-LEDの基本解説 １．μ-LEDとは ２．μ-LED開発過熱の背景 ３．μ-LEDを用いたディスプレイの特徴 3.1 仮想μ-LEDディスプレイの構造 3.2 LED自発光型ディスプレイとの違い 3.3 LCDとの違い 3.4 OLEDディスプレイとの違い 3.5 QLEDディスプレイとの違い Chapter２ μ-LEDおよびμ-LEDディスプレイ製造技術と量産化の課題 １．LEDおよび集積回路の製法 1.1 LEDの製法 1.2 集積回路（IC）の製法 ２．μ-ＬＥＤ製造技術の課題と実状 2.1 LED の小型化技術：CSP-LED/MJT LED 2.2 μ’-LED（疑似μ -LED）という実状 2.3 真のμ -LED を製造するための課題 2.3.1 ミクロ集積化技術の課題 （1）ナノレーザ切断によるミクロ集積化 （2）フォトリソグラフィ法（Photolithography）によるミクロ集積化 2.3.2 ミクロ回路形成 2.4 1面発光型半導体の応用による側面反射・遮光加工の不要化 2.4.1 共振器型発光ダイオード（RCLED） 2.4.2 垂直面発光レーザ（VCSEL） 2.4.3 レーザダイオード（LD） ３．μ-LEDディスプレイ製造技術の開発動向 3.1 一般情報から概要を読み解く 3.2 特許情報から技術動向を読み解く 3.2.1 ソニー(株) 3.2.2 アップル社 3.2.3 ルーメンス社 3.2.4 バイケル・インク社 3.2.5 Ostendo Technologies社 3.2.6 Micro Mesa Technology 社 3.2.7 Oculus 社 3.2.8 X-Celeprint 社 3.2.9 VerLASE 社 3.3 μ -LED ディスプレイ実用化への課題（過去の自発光型ディスプレイ開発の歴史に顧みて） 3.3.1 表面伝導型電子放出素子ディスプレイ（SED） 3.3.2 プラズマディスプレイパネル（PDP） ４．ナノLED（n-LED） 4.1 ナノワイヤーLED 4.2 GaNナノコラム Chapter3 ディスプレイ分野以外へのμ-LED応用の展望 １．光伝送用途 ２．光標識用途 ３．医療用途 ４．その他 Chapter４ 汎用の発光半導体およびディスプレイの情報 １．LED 1.1 LEDの開発経緯 1.2 LEDの用途展開 1.3 LED照明 1.3.1 高輝度照明 1.3.2 低輝度照明 ２．OLED 2.1 OLEDの開発経緯 2.2 OLEDの用途展開 2.3 自発光型ディスプレイ 2.3.1 スマートフォン 2.3.2 テレビ 2.4 OLEDの差別化 2.4.1 OLEDの最重要課題 2.4.2 ウエアラブル化 2.4.3 フレキシブル化 ３．LCD 3.1 スマートフォン 3.2 大型テレビ 3.3 その他 Chapter５ 最新情報 １．CED2018情報 1.1 マイクロLEDディスプレイ 1.2 QDレーザーディスプレイ ２．その他 おわりに