受講形式ライブ配信アーカイブ配信

酸化物半導体の基礎と
三次元集積デバイス応用に向けた研究開発動向
~ 酸化物半導体の材料・プロセス・デバイス特性(薄膜形成・トランジスタ形成技術) ~
~ 三次元集積化技術(3Dメモリデバイス、DRAM、NAND)への展開 ~
■得られる知識■
・酸化物半導体の材料物性、プロセス技術、デバイス技術に関する基礎
・三次元集積デバイス応用に向けた最近の酸化物半導体デバイスの研究開発動向
・酸化物半導体の材料物性、プロセス技術、デバイス技術に関する基礎
・三次元集積デバイス応用に向けた最近の酸化物半導体デバイスの研究開発動向
| 日時 | 【ライブ配信】 2026年10月16日(金) 13:00~16:30 | |
|---|---|---|
| 受講料(税込) | 49,500円 定価:本体45,000円+税4,500円 【2名同時申込みで1名分無料キャンペーン(1名あたり定価半額の49,500円)】 ※2名様とも会員登録をしていただいた場合に限ります。 2名様以降の受講者は、申込み前に会員登録をお済ませください。 ※同一法人内(グループ会社でも可)による2名同時申込みのみ適用いたします。 ※3名様以上のお申込みの場合、上記1名あたりの金額で受講できます。 ※請求書(PDFデータ)は、代表者にE-mailで送信いたします。 ※請求書および領収書は1名様ごとに発行可能です。 (申込みフォームの通信欄に「請求書1名ごと発行」と記入ください。) ※他の割引は併用できません。 ※テレワーク応援キャンペーン(1名受講)【オンライン配信セミナー受講限定】 1名申込みの場合:受講料 定価:39,600円 定価:本体36,000円+税3,600円 ※1名様でオンライン配信セミナーを受講する場合、上記特別価格になります。 | |
【ご経歴】
2010年 米国スタンフォード大学博士課程修了
2010年-2014年 米国IBMワトソン研究所 プロパー研究員
2014年-2019年 東京大学生産技術研究所 准教授
2019年-2025年 東京大学大学院工学系研究科附属d.lab 准教授
2025年より 東京大学生産技術研究所 教授
【ご専門】集積ナノエレクトロニクス
【WebSite】
https://nano-lsi.iis.u-tokyo.ac.jp/


