受講形式ライブ配信アーカイブ配信
ナノインプリントリソグラフィの基礎と応用技術動向
ナノインプリントリソグラフィ（Nanoimprint Lithography: NIL）の基礎と実用例を解説
| 日時 | ||
|---|---|---|
| 会場 | 東京・品川区大井町 きゅりあん 4階 第1特別講習室 | |
| 受講料(税込) | 49,500円 定価：本体45,000円＋税4,500円 【2名同時申込みで1名分無料キャンペーン（１名あたり定価半額の49,500円）】 ※2名様とも会員登録をしていただいた場合に限ります。 2名様以降の受講者は、申込み前に会員登録をお済ませください。 ※同一法人内(グループ会社でも可)による2名同時申込みのみ適用いたします。 ※3名様以上のお申込みの場合、上記１名あたりの金額で受講できます。 ※請求書（PDFデータ）は、代表者にE-mailで送信いたします。 ※請求書および領収書は1名様ごとに発行可能です。 (申込みフォームの通信欄に「請求書１名ごと発行」と記入ください。) ※他の割引は併用できません。 | |
【その他 活動等】
応用物理学会 ナノインプリント技術研究会 運営委員長
本講演では、NILの基礎と要素技術を紹介した後、実用例等を紹介することで、新製品等のヒントが得られると考えている。また、ロールトゥロール（RTR）NILの説明も行い、反射防止構造フィルムの製造例なども紹介する。こちらもフィルムベースの新製品等のヒントが得られると考えている。さらに、最新のメタレンズやAR/VRグラスへの応用についても紹介する。
