リソグラフィ技術・レジスト材料の基礎と微細化・高解像度に向けた先端技術、今後の展望
～フォトリソグラフィプロセスの理解とレジスト材料の開発指針、EUVLからPFASフリーまで～
【半導体産業応援キャンペーン対象セミナー】3名以上のお申込みでさらにおトク
本セミナーでは、これまでのリソグラフィ技術・レジスト材料開発の事例をまとめ、今後の効率的な技術開発・不良防止・トラブル対策への応用への指針とする。リソグラフィ技術のこれまでを学ぶことで、これからを見通す力を身に着ける。
| 日時 | 【ライブ配信】 2026年6月18日（木） 10:30～16:30
【アーカイブ配信】 2026年7月2日（木） まで受付 ［視聴期間：7/2～7/15］ |
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| 受講料(税込) | 55,000円
定価：本体50,000円＋税5,000円
【2名同時申込みで1名分無料キャンペーン（１名あたり定価半額の55,000円）】
※2名様とも会員登録をしていただいた場合に限ります。
2名様以降の受講者は、申込み前に会員登録をお済ませください。
※同一法人内(グループ会社でも可)による2名同時申込みのみ適用いたします。
※3名様以上のお申込みの場合、上記１名あたりの金額で受講できます。
※請求書（PDFデータ）は、代表者にE-mailで送信いたします。
※請求書および領収書は1名様ごとに発行可能です。
(申込みフォームの通信欄に「請求書１名ごと発行」と記入ください。)
※他の割引は併用できません。
※テレワーク応援キャンペーン(1名受講)【オンライン配信セミナー受講限定】
1名申込みの場合：受講料 定価：44,000円
定価：本体40,000円＋税4,000円
※１名様でオンライン配信セミナーを受講する場合、上記特別価格になります。
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・１．レジスト
・リソグラフィ技術の基礎と技術開発の必然性、マイクロエレクトロニクスの高密度化、高速化、低コスト化に伴うリソグラフィ技術の微細化
・レジストの高解像度化などの高品位化の歴史的変遷およびイノベーションの創出過程を知ることができる。２．技術
・レジスト材料開発の実例を学ぶことにより、効率的な技術開発
・不良防止
・トラブル対策への応用が可能となる。３．レジスト
・リソグラフィ技術の研究開発動向、現状の技術的な課題とその対処技術、今後の展望などを知ることで今後の技術開発の方向性
・指針が得られる。４．PFASフリー対応の現状と課題及び研究開発動向５．事業課題の設定、事業計画の策定
・推進、その他、新規事業の立ち上げや海外進出の推進、他社との資本
・業務提携
・アライアンスなどに関する企画立案などの参考になる。６．科学技術の進歩の負の側面として顕在化してきている地球規模の課題の解決に向けて半導体産業が果たす役割を考察し、日本の半導体産業の現状と課題を整理し、今後の展開の指針としたい。
・研究開発、製造技術業務にたずさわって2～3年の若手技術者の方から中堅技術者、リーダー
鴨志田技術事務所 代表 鴨志田 洋一 氏 （元ＪＳＲ(株)、神奈川大学）
【専門】機能性高分子、高分子合成、リソグラフィ材料、フォトポリマー、知的財産権、コーポレートガバナンス
今日の情報化社会は、マイクロエレクトロニクス(ME)の発展に支えられている。その先端技術ともいえる人工知能(AI)は医療分野、自動運転技術への展開から社会への浸透をはじめており、人間に代わるから超えるところまで議論されている。
MEは、1950年代に集積回路(IC)が開発されて以来、大規模集積回路(LSI)のパターンの微細化、高集積化、すなわちメモリー大容量化、システムLSIの高性能化の方向で、一貫して発展してきている。あわせて情報処理の高速化、低価格化も実現してきた。今後もメモリーの大容量化およびシステムLSIの高性能化の流れは止まりそうにないと予測されている。このような流れの中で、フォトリソグラフィの進歩はフォトレジストなどの材料開発が中心軸となってMEの発展に寄与してきたが、これらの材料をうまく使いこなす露光装置を中心としたハードウェア、プロセス技術の進歩も著しいものがある。
レジスト材料の開発はパターンの微細化、高解像度化が中心で、これは主として露光に用いる光の波長を短くすることで実現されてきた。ここまではさまざまな選択肢、さまざまな試行など、紆余曲折はあったものの、結果として振り返ってみれば、それまでの技術の延長線上で進んできている。1970年代から40年余りの短い時間に次のような大きな技術変革を経験している。
1) コンタクトアライナーによるリソグラフィ技術の確立
2) 投影露光方式の導入
3) 化学増幅型レジスト／エキシマレーザ光源の採用
4) EUV光源・反射光学系の採用など
それぞれのステップで多くのイノベーションが実現され課題を克服してきたわけである。ここでは、これまでの技術・材料開発の事例をまとめ、研究開発動向の現状、技術的な課題とその対処技術を整理し、今後の効率的な技術開発・事業開発への指針とする。あわせて、日本の今後の半導体関連産業の在り方についても考察する。
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